CHSP-210压力变送器采用德国赫斯曼扩散硅技术，具有高精度、强抗干扰等核心优势，是工业自动化压力监测的理想选择。本文将深度解析其结构原理、性能参数及行业应用场景，助您快速掌握这款关键传感器选型要点。

一、扩散硅赫斯曼传感器的技术原理

扩散硅压力传感器基于半导体压阻效应，通过离子注入工艺在硅片表面形成惠斯通电桥结构。当外界压力作用于敏感元件时，硅晶格产生形变导致电阻值变化，经信号调理电路转换为标准4-20mA输出。CHSP-210采用赫斯曼**的温度补偿算法和激光修调技术，在-40℃~125℃范围内实现±0.1%FS的高精度，显著优于传统应变片式传感器。

二、核心性能参数对比分析

三、典型应用场景解析

在石油化工领域，CHSP-210凭借Ex ia IIC T6 Ga防爆认证，可安全用于反应釜压力监控；其316L不锈钢隔离膜片能耐受H2S腐蚀，在天然气处理厂表现**。类似地，国产电容式压力变送器WIDEPLUS-AK也通过IECEx认证，适用于电力、冶金等恶劣环境。

四、采购选型技术指南

• 量程匹配：建议工作压力处于量程的30%-80%区间
• 过程连接：G1/2"法兰或M20×1.5螺纹需匹配管道规格
• 介质兼容性：氟橡胶密封件适用于大多数腐蚀性介质
• 输出协议：HART协议版本需与控制系统兼容

五、为什么选择盛弘创仪器

作为西咸新区国家级**技术企业，我们拥有CNAS认证实验室，所有产品出厂前均经过72小时老化测试。针对CHSP-210系列，提供3年超长质保，并支持现场标定服务。如需获取定制化解决方案，欢迎联系我们的技术工程师团队。