扩散硅传感器的高精度压力检测原理图解

XMLK-C21压力变送器采用先进的扩散硅传感器技术，实现高精度压力检测。本文将图解其工作原理，并解答扩散硅液体气体压力传感器如何选型、应用等关键问题，帮助操作人员深入了解这一核心技术。

扩散硅传感器的核心结构与工作机理

扩散硅压力传感器作为XMLK-C21变送器的核心元件，其工作原理基于压阻效应。在单晶硅基底上通过离子注入工艺形成四个压敏电阻，构成惠斯通电桥结构。当被测介质压力作用于隔离膜片时，通过填充液传递至硅敏感元件，导致电阻值变化，电桥输出与压力成正比的毫伏级信号。

关键技术参数包括：

• 工作温度范围：-40℃~125℃（标准型）
• 过载能力：150%FS
• 长期稳定性：±0.1%FS/年
• 介质兼容性：316L不锈钢隔离膜片

XMLK-C21的典型应用场景分析

该型号特别适用于工业流程中的液体和气体压力监测，在以下场景表现突出：

扩散硅传感器的选型关键要素

针对PH-PH101、DG1300等不同型号的选型，需重点考虑：

1. 介质特性：腐蚀性介质需选择哈氏合金膜片
2. 压力范围：量程应为工作压力的1.5倍
3. 输出信号：4-20mA适合长距离传输
4. 过程连接：1/4NPT螺纹为通用标准

行业解决方案与质量验证

西安盛弘创仪器仪表生产的PT124B-210等系列产品通过：

• CE认证（EN 61298-1:2008）
• RoHS合规检测
• 72小时老化测试
• 温度循环试验（-40℃~125℃）

典型问题与技术解答

Q：GT-V型号的优缺点？
A：优点是抗震性好，适合移动设备；缺点是**温度限制在85℃。

Q：如何验证PMI009-732的质量？
A：可通过零点漂移测试（24小时变化应<0.05%）和阶跃响应测试（响应时间<5ms）。

技术总结与选购建议

扩散硅压力传感器凭借其卓越的稳定性和精度，已成为工业测量的首选方案。建议用户根据实际工况选择经过行业验证的XMLK-C21、SMP131等型号，并优先考虑具备ISO 9001认证的制造商。

西安盛弘创仪器仪表提供专业技术支持与定制服务，欢迎联系我们获取AT-131等型号的详细技术方案。